中芯国际测试国产DUV光刻机试产7nm芯片

据《金融时报》等媒体报道，中芯国际正在测试国产28nm DUV光刻机，并尝试结合多重曝光工艺生产7nm芯片。同时，一家上海国资背景企业也已开始制造浸没式DUV光刻机。报道指出，此类设备能否真正实现量产不仅取决于获取渠道，更受制于设备的具体规格与良率表现。

2026-07-27 ~ 2026-07-28 · 3 条相关

事件全程(共 3 集)→

• 第 1 集:中国量产 DUV 光刻机传闻致 ASML 股价大跌(2026-07-27,3 条)
• 第 2 集:中芯国际测试国产DUV光刻机试产7nm芯片(2026-07-27,3 条)
• 第 3 集:中国量产自研DUV光刻机并交付多家芯片厂(2026-07-28,4 条)

• FT：SMIC 正测试国产 28nm DUV 光刻机做 7nm 芯片 — teortaxesTex · 2026-07-27
• FT 新摘录称，DUV 设备能否量产看规格不看价格 — teortaxesTex · 2026-07-27
• 报道称上海国资背景企业已开始制造国产浸没式 DUV 光刻机 — teortaxesTex · 2026-07-28