SMIC 测试国产 DUV 光刻机探索 7nm 制程

据《金融时报》报道，中芯国际（SMIC）正在测试一台国产 28nm DUV 光刻机，并尝试结合多重曝光工艺生产 7nm 芯片。报道及后续讨论指出，DUV 设备能否真正实现量产不仅取决于采购渠道，更受限于设备自身的规格与良率表现。这凸显了中国芯片制造业在先进制程上对 DUV 设备的深度依赖与技术挑战。

2026-07-27 ~ 2026-07-27 · 2 条相关