FT：SMIC 正测试国产 28nm DUV 光刻机做 7nm 芯片
teortaxesTex · x · 2026-07-27
- 《金融时报》截图显示，SMIC 正在测试一台中国制造的 28nm DUV 光刻机，并尝试配合多重曝光（multi-patterning）工艺生产 7nm 芯片。
- 报道称，早期试验结果“有希望”，但何时能用于大规模量产仍不明确；新 DUV 设备通常要经过至少一年的反复调校，才能达到可生产的稳定性与良率。
- 文章还提到，中国芯片厂商目前仍大量依赖 ASML 的 DUV 机器，来源包括出口管制前采购或二手机器。
- 这类进展意味着中国在被限制的设备链条上继续向前推进，但距离真正稳定量产仍有不小距离。
所属事件:SMIC 测试国产 DUV 光刻机探索 7nm 制程(2 条相关)→
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