FT 新摘录称,DUV 设备能否量产看规格不看价格
teortaxesTex · x · 2026-07-27
这条回复本身很短,但引用和配图都在延续同一个主题:光刻机、良率、以及中国芯片制造对 DUV 设备的依赖。
引用段落强调,DUV 设备能否进厂并不是“买得到就行”,而是要看 matched machine overlay、每小时产能和良率 等硬指标;配图里的 FT 截图则提到,SMIC 正在测试国产 28nm DUV 设备,并尝试用多重曝光做 7nm 芯片。整体属于半导体供应链进展讨论。
所属事件:SMIC 测试国产 DUV 光刻机探索 7nm 制程(2 条相关)→
「Infra」频道最新
- llama.cpp 在 PR 25994 中加入 Nanbeige4.2 支持 — pmttyji · 2026-07-27
- 开源 Kimi K3 speculator 让单流吞吐升至 370 tok/s — vllm_project · 2026-07-27
- vLLM 列出 Kimi K3 的解耦、KV offload 和 MoE 方案 — vllm_project · 2026-07-27
- Inferact 的 Kimi-K3-DSpark 复用 MLA 缓存加速 vLLM — vllm_project · 2026-07-27
- Kimi K3 用固定 KDA 状态替代增长式 KV 缓存 — vllm_project · 2026-07-27
- MoonshotAI 开源 MoonEP,做专家并行负载均衡 — teortaxesTex · 2026-07-27