蔡司高管称中国 EUV 光刻落后十五年，网友质疑口径

据彭博报道，全球半导体设备关键供应商德国蔡司的高管表示，中国在 EUV 光刻工具的研发上落后约十五年，即中国要造出制造最先进芯片所需的极紫外光刻机仍需约 15 年。不少网友对此口径提出质疑：有人调侃「中国时间和德国时间十五年不是一回事」、暗示实际差距可能更小（「打个对折再说」），也有人指出轻信单一供应商的判断并不可靠。

2026-09-03 ~ 2026-09-04 · 3 条相关

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