Zeiss 称中国距 EUV 光刻机尚差 15 年,网友质疑单一供应商口径
basedjensen · x · 2026-09-03
据 Bloomberg 报道,ASML 供应商 Zeiss 表示,中国要造出制造最先进芯片所需的极紫外(EUV)光刻机,仍需约 15 年时间。有网友对此评论嘲讽,指出「轻信供应商的说法」——尤其是单一供应商——历史上从未有好结果,暗指该时间表可能过于乐观或另有动机。
「Infra」频道最新
- 光刻机神话？博主称蔡司镜片镀膜 expertise 仅约30年深 — teortaxesTex · 2026-09-03
- Tenstorrent 联手日本机构推 JapanFold，免费提供开源制药模型推理 — DavidBennett__ · 2026-09-03
- 联发科或拿下谷歌百万颗 TPU 训练芯片订单，博通只保推理 — firstadopter · 2026-09-03
- 语音输入提效实测：Mac Parakeet + Whisper 本地转写体验 — LeatherRub7248 · 2026-09-03
- 跑本地大模型该加多少显存内存？Reddit 热议容量与速度取舍 — MiceLiceandVice · 2026-09-03
- FastVideo-FastH3 上架 MLX 页面，Mac 本地推理提速工具未发先热 — Structure-These · 2026-09-03