Zeiss 称中国距 EUV 光刻机尚差 15 年,网友质疑单一供应商口径
basedjensen · x · 2026-09-03
据 Bloomberg 报道,ASML 供应商 Zeiss 表示,中国要造出制造最先进芯片所需的极紫外(EUV)光刻机,仍需约 15 年时间。有网友对此评论嘲讽,指出「轻信供应商的说法」——尤其是单一供应商——历史上从未有好结果,暗指该时间表可能过于乐观或另有动机。
所属事件:蔡司高管称中国 EUV 光刻落后十五年，网友质疑口径(3 条相关)→
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