蔡司高管:中国在 EUV 光刻设备上落后约 15 年

pstAsiatech · x · 2026-09-04

全球半导体设备关键供应商德国蔡司的一位高管表示,中国在 EUV 光刻工具的研发上落后约十五年。作者对此评论持保留态度,暗示实际差距可能更小(「打个对折再说」)。EUV 是出口管制下最受关注的核心卡脖子环节之一,此表态为国产光刻进展的时间线提供了一个来自供应链核心方的参照。

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