深圳自研 EUV 原型机已出光，光刻瓶颈转向子系统

据报道，中国虽未获得 ASML 的量产 EUV 光刻机，但已在深圳建成能产生 EUV 光的自研原型机，标志着重大里程碑；当前主要瓶颈集中在精密光学等子系统层面，光刻封锁正被子系统级突破逐步瓦解。此外，美方声称一台 ASML EUV 光刻机流入中国，但该说法未经证实，ASML 表示华盛顿未提供任何支持证据。

2026-08-17 ~ 2026-08-17 · 2 条相关