中国自建 EUV 原型机已出光：光刻封锁正被子系统级瓦解

charitychaste · x · 2026-08-17

事件与现状

• 美国声称一台 ASML EUV 光刻机流入中国，但该说法未经证实，ASML 称华盛顿未提供任何支持证据
• 更重要的里程碑：深圳已建成中国自研的粗糙 EUV 原型机，据称由前 ASML 工程师参与、部分零件来自旧设备
• 该原型机已能产生所需的 EUV 光，但尚未造出可用芯片，精密光学仍是最难啃的硬骨头

管控可能瞄错了对象

• ASML 表示能追踪其史上全部 340 台 EUV 设备（其中 26 台已退役），因为只有自家工程师负责搬运维护
• 但零部件和子系统经过长长的专业供应商链条，没有可比的追踪机制——华盛顿盯「整机」可能管不住关键子系统

DUV 多重曝光的战略意义

• SMIC 和华为已能用 DUV 多重曝光制造先进逻辑芯片，绕开 EUV
• 多重曝光步骤更多、良率缺陷更多，商业上不划算；但在「没有国产先进芯片就没有替代」的语境下，国家级项目能容忍商业代工厂无法接受的成本

所属事件:深圳自研 EUV 原型机已出光，光刻瓶颈转向子系统(2 条相关)→

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