深圳造出 EUV 原型机，中国光刻突破瞄准子系统

rohanpaul_ai · x · 2026-08-17

文章分析了中国在光刻技术上的最新进展。尽管中国未获得 ASML 的量产 EUV 机器，但据报道已在深圳制造出能产生所需 EUV 光的 crude 原型机，主要瓶颈在于精密光学系统。ASML 虽能追踪整机，但子系统供应链漫长且难以完全控制。文章指出，中国不需要 ASML 级别的整机即可削弱制裁，可逐个突破子系统。此外，利用现有的 DUV 舰队进行多重曝光（multi-patterning），SMIC 和华为已能在不使用 EUV 的情况下制造先进逻辑芯片，虽然成本和良率有挑战，但在国家战略支持下具备可行性。