国产 EUV 光源首次公开亮相，供应链或在暗示临近突破
pstAsiatech · x · 2026-10-15
Langdao Silex Tech 在 2026 中国工博会上展示了 Flint-LPP EUV 光源，其中 FlintNano 已投产，FlintMicro 仍在验证中；公司同时展出功率最高 20 kW 的 Glow 系列 MOPA 激光器，作者认为已达商用光刻机门槛。作者观点：关键不在与 ASML 最新机型的商业化差距或功率/转换效率对比，而在于供应链敢于公开展示产品——叠加本周华为高管谈及 EUV 在华研发，种种迹象表明国产 EUV 正在临近量产节点。
所属事件:国产 EUV 光源首次公开亮相工博会引关注(2 条相关)→
「Infra」频道最新
- vLLM P/D 原型实测:12×GB300 上前缀命中率 91.24% — vllm_project · 2026-10-15
- vLLM 实现Step 5 Preview日0支持：稀疏prefill延迟降2.2% — vllm_project · 2026-10-15
- vLLM 详解 Step 5 Preview 稀疏注意力：先选区域再读历史 — vllm_project · 2026-10-15
- vLLM 官宣 Step 5 Preview 日 0 支持，横跨 Blackwell 与 Hopper — vllm_project · 2026-10-15
- UW 提出 COUNT:用 n-gram 计数表扩展主存,1B 模型等效多 57% 算力 — UW · 2026-10-15
- 马斯克转发：星舰年产5000次发射,年送100万吨入轨 — elonmusk · 2026-10-15