德累斯顿芯片厂或走无EUV路线，浸润式多重曝光可撑7nm
pstAsiatech · x · 2026-10-10
被引用的推文分析了德累斯顿（Dresden）新建芯片厂的可行技术路线：认为其更像一个无 EUV 的光学 7nm 节点方案。
核心观点包括：
- 德累斯顿难以像 Malta（格罗方德纽约厂）那样安装 EUV 光刻系统，10 亿欧元级别的预算也说明不会上 EUV；
- 较新的浸润式（immersion）光刻设备配合多重曝光（multi-patterning），完全可以实现可接受良率的 7nm 工艺；
- 格罗方德当年放弃 7nm 时 Malta 已经推进很远，并非从零开始，相关积累仍有价值。
「Infra」频道最新
- 马斯克：Grokbot 将按任务调用 Claude 等最优模型，押注模型商品化 — JOBhakdi · 2026-10-10
- CPO 激光路线分化,Lumentum 的 AI 光学业务并非稳赚 — zephyr_z9 · 2026-10-10
- dotConf 演讲回放:用投机解码加速 llama.cpp 推理 — ngxson · 2026-10-10
- 三星开源 LittleBit：13B 模型极限量化压进 1GB 内存 — udmrzn · 2026-10-10
- 分析师称 agentic CPU 研究与 NVIDIA Vera 基准结论一致,关注扩展路径之争 — BenBajarin · 2026-10-10
- Container 运行时 P95 延迟降至 731ms，两周再快 180ms — ritakozlov · 2026-10-10