零改动流片兼容硅光子 MEMS 光开关
jwt0625 · x · 2026-08-08
分享了一项极具创意的 MEMS 设计，该设计利用 BEOL（后端工艺）金属层进行驱动，无需对现有标准晶圆代工流程做任何修改即可实现。
不过作者指出，该工艺的刻蚀时间较长，需要 2.5 小时。
所属事件:UC Berkeley发布零改动流片兼容硅光MEMS光开关(2 条相关)→
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