中国自研浸没式 DUV 设备开始走向 7nm 生产
deedydas · x · 2026-07-28
- 帖子称，中国已经开始量产自研的浸没式 DUV 光刻机，试图补上类似 ASML 设备在芯片制造中的关键位置。
- 文中点名 Yuliangsheng，称其与华为、SiCarrier 相关，正在生产可用于 7nm 芯片制造的浸没式 DUV 设备，首批交付对象包括 SMIC、中芯之外的华虹、CXMT 等厂商。
- 作者把中国 AI 算力供应链粗略类比为 ASML → Yuliangsheng、TSMC → SMIC、Nvidia → Huawei，并强调当前技术仍明显落后于前沿 EUV 体系。
- 同时也给出限制条件：关键部件仍依赖日本，设备落地后还需要 12–18 个月调校，良率爬坡也很慢；但这仍被视为中国自建算力供应链的重要节点。
所属事件:中国量产自研DUV光刻机并交付多家芯片厂(4 条相关)→
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