ASML EUV 光刻机：20G 加速度下保持 5 个原子精度
ZeroStateReflex · x · 2026-07-26
推文分享了 ASML 的极紫外（EUV）光刻机在工程上的极致表现：其内部反射镜在以 20G 加速度 剧烈运动的同时，依然能维持相当于 5 个硅原子 宽度的定位精度。作者进一步探讨了究竟是何种致动器与工程技术，能够在如此极端的物理动态下实现这种超高精度。
「Infra」频道最新
- 一段风格化 AI 视频演示在 RTX 3090 本地运行 — jrexthrilla · 2026-07-26
- 多机多卡如何组网？本地部署大模型硬件配置求助 — BinaryGrind · 2026-07-26
- mlx-dspark 在 M4 Pro Mac 上将 Gemma 4 提速约 3 倍 — GlennCameronjr · 2026-07-26
- Jack Dorsey 的 Buzz 把共享算力做成社区级 AI 协作层 — MarvinTBaumann · 2026-07-26
- AWS、Google、Azure 和 Cloudflare 都在做 agent 沙箱 — krishnan · 2026-07-26
- Alphabet 上调 2026 CapEx 至 1950 亿美元，AI 股却在回调 — tengyanAI · 2026-07-26