分析师推测中芯国际系 fab 用光刻返工漏洞验证国产设备
pstAsiatech · x · 2026-11-10
半导体光刻在 fab 中少见地拥有「重来一次」的机会——返工（rework）。作者推测上海微电子（SMEE）与上海爱昶纳正与国内 fab 合作，利用这一流程自动化闭环：先在国产研发设备上曝光真实产品晶圆、测量结果，再剥离后在合格的 ASML 扫描光刻机上重新曝光，从而在 fab 不敢直接用于生产的国产设备上获得真实量产学习数据。作者称「如果是我就会这么做」。
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