台积电与 ASML 转向 12 英寸光罩,以释放 High-NA EUV 全视场潜力
pstAsiatech · x · 2026-10-12
据 DigiTimes 报道,台积电与 ASML 正研究 12 英寸(300mm)光罩方案,以解锁 High-NA EUV 光刻的全视场(full-field)潜力。当前 High-NA EUV 使用的 6 英寸光罩视场减半,需要更多次曝光;放大到 12 英寸光罩可恢复全视场,减少先进节点的曝光次数与成本。这是先进制程与 AI 算力供应链的关键设备演进信号(原链接被墙,细节以标题信息为准)。
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