为马斯克「不用定制设备」辩护:芯片业标准化惯性拖慢工艺革新
jwt0625 · x · 2026-10-11
- 有人嘲讽马斯克「不用定制设备」的言论,作者为其辩护:制造业中「人人用一样的方案」与「高度定制」之间存在完整光谱,很多现有工具/材料/方法并非最优,欢迎外来视角审视。
- 例一:光刻显影液自诞生起就用 0.26 当量浓度的 TMAH 水溶液,并非对所有光刻胶最优,但因是量产线大宗化学品、一条产线跑多种胶,业界不愿改;TEL 曾尝试在线动态稀释,也因光刻胶都按 0.26N 设计而未普及。
- 例二:CMP(化学机械抛光)等核心工艺也存在类似「因标准而将就」的现象。
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