美智库报告:中国正大量囤积 DUV 浸没式光刻机,或十年内抹平美芯片优势
teortaxesTex · x · 2026-10-04
Center for Technology & Statecraft(作者含 Saif M. Khan)发布报告,主张对华全面禁售 DUVi(深紫外浸没式)光刻设备。
要点:
- 先进光刻是 AI 芯片竞争的基石,中国预计要到 2030 年代中期才能规模化商用这类设备;
- 报告估算中国自有晶圆厂的浸没式扫描仪装机量,并特别指出 CXMT 安徽厂约有 6 台 NXT:2100i,搭载蔡司最先进对准操纵器——与 EUV 同级战略意义的技术;
- 若中国按 2024–2025 的进口速度继续,5–10 年内可能显著缩小甚至抹平美国及其盟友在 AI 芯片产能上的优势;
- 政策主张:以全面对华 DUV 出口禁令取代现行的部分管制,并配套零部件与维修服务管制,可保住美国优势至 2035 年;
- 报告明确是为推动 MATCH Act 立法服务。
评论区质疑:一旦 ASML 服务合同被打破,已装机设备的 IP 维护怎么办——那正是保护工具 IP 的机制。
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