MIT新突破：内爆雕刻技术造出可计算光的3D纳米器件
snikolov · x · 2026-08-08
MIT研究人员开发出一种名为“内爆雕刻”的新技术，能够制造出足以引导可见光的微型3D光子器件。
该技术通过光刻技术在水凝胶上印刻特征，随后将其缩小至原体积的1/2000。这一方法建立在Boyden教授团队2018年开发的“内爆制造”技术之上，有望为未来的光学计算和光子芯片开辟新路径。
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