中国芯片初创公司公布激进制程路线图
teortaxesTex · x · 2026-07-11
一家中国IDM芯片初创公司(元吉微半导体)公布了极其激进的制程路线图:计划2026年量产90nm,2027年攻克28nm,并在2029年达到5nm。评论指出,鉴于过去武汉弘芯(HSMC)事件的影响,ASML和Nikon不太可能再向中国初创公司出售浸没式光刻机,因此该目标被质疑为画大饼。
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