中国芯片初创公司公布激进制程路线图

teortaxesTex · x · 2026-07-11

一家中国IDM芯片初创公司（元吉微半导体）公布了极其激进的制程路线图：计划2026年量产90nm，2027年攻克28nm，并在2029年达到5nm。评论指出，鉴于过去武汉弘芯（HSMC）事件的影响，ASML和Nikon不太可能再向中国初创公司出售浸没式光刻机，因此该目标被质疑为画大饼。